AMO

Isolatoren für 2D-Nanoelektronik: die zu überbrückende Lücke

Ein Übersichtsartikel über eines der heikelsten Themen der zukünftigen Elektronik auf der Grundlage von 2D-Materialien

Ein Team von Wissenschaftlern unter der Leitung von Tibor Grasser und Yuri Illarionov von der TU Wien, darunter der RWTH-Professor und AMO-Direktor Max Lemme, hat einen ausführlichen Review über die aktuelle Suche nach geeigneten Isolatoren für zweidimensionale (2D) Nanoelektronik in Nature Communications veröffentlicht.

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Ein CMOS-kompatibles plasmo-photonisches Mach-Zehnder-Interferometer

Forscher der AMO GmbH und Kollegen aus dem Projekt PLASMOfab haben ein CMOS-kompatibles plasmo-photonisches Mach-Zehnder-Interferometer auf der Basis von Aluminium- und Si3N4-Wellenleitern demonstriert.

Schematische Darstellung des plasmo-photonischen Mach-Zender-Interferometers
Schematische Darstellung des plasmo-photonischen Mach-Zender-Interferometers

Die Bulk-Empfindlichkeit des Geräts ist die höchste unter allen plasmo-photonischen Gegenstücken (4764 nm/RIU) und konnte durch Optimierung der Designparameter des Interferometers weiter gesteigert werden. Darüber hinaus entspricht das Gerät den CMOS-Fertigungsstandards, wodurch es für die Serienfertigung geeignet ist.

Dieses Ergebnis wurde auf Optics Express veröffentlicht und ist Teil der größeren Anstrengungen des PLASMOfab-Projekts zur Entwicklung CMOS-kompatibler Plasmonen in einem generischen planaren Integrationsprozess als Mittel zur Konsolidierung der photonischen und elektronischen Integration.

Bibliographische Angaben:
“Ultra-sensitive refractive index sensor using CMOS plasmonic transducers on silicon photonic interferometric platform”
A. Manolis, E. Chatzianagnostou, G. Dabos, D. Ketzaki, B. Chmielak, A. L. Giesecke, C. Porschatis, P. J. Cegielski, S. Suckow, L. Markey, J.-C. Weeber, A. Dereux, S. Schrittwieser, R. Heer, N. Pleros, and D. Tsiokos, Opt. Express 28, 20992-21001 (2020).
https://doi.org/10.1364/OE.383435

Kontakt
Dr. Anna Lena Giesecke
giesecke@amo.de

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Eine skalierbare Fertigungstechnologie für hochempfindliche Photodetektoren auf flexiblen Substraten

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AMO gratuliert Prof. Neumaier

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Bild: Bergische Universität Wuppertal

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