AMO

Dienstleistungen

Transfer von KET Technologien (Key Enabling Technologies) in Innovationen

Products_Services
Der Technologietransfer vom Labor in innovative Anwendungen ist eine der Hauptsäulen, auf die sich AMO‘s Mission stützt.

Von größtem Interesse ist dabei der Transfer der KET Technologien, die aus den verschiedenen Forschungsaktivitäten der AMO hervorgegangenen sind, in innovative Gruppen an Universitäten und der Industrie.

Der herkömmliche Technologietransfer findet auf drei verschiedene Arten statt:

  • AMO als normaler Partner in einem Konsortium für geförderte Projekte
  • AMO als Unterauftragnehmer im Rahmen verschiedener F&E-Projekte
  • als innovativer Partner in gemeinsamen Entwicklungsprojekten

Für all diese Partnerschaften bietet AMO den perfekt ausgestatteten CMOS-Reinraum.

Im Folgenden sind die Produkte und Prozesse zusammengefasst, die von unseren Kunden und Partnern aktuell in Anspruch genommen werden können:


Angewandte Lithographie

Die meisten Anfragen bzgl. der bei AMO angewandten Lithographietechnologie zielen auf die Herstellung von Mastern und Masken, die für den Imprint-Prozess verwendet werden.

Durch Einsatz der gesamten verfügbaren Reinraumausstattung ist AMO in der Lage eine hoch flexible Prozessplattform für die Herstellung von Mastern anzubieten. Die im Einzelfall eingesetzte Lithographietechnik ist im Wesentlichen abhängig von der erforderlichen minimalen Strukturgröße, dem Pitch und andern spezifischen Parametern des Masters.

Verfügbare Lithographietechniken:

  • i-line Lithographie
  • Interferenzlithographie
  • Elektronstrahllithographie

Die Strukturen werden über reaktives Ionenätzen in das Substrat übertragen.

Andere Anwendungsfelder der angewandten Lithographie umfassen die Prozessierung von Strukturen mit einer sehr geringen Strukturgröße, die typischerweise für die hoch präzise und flexible Herstellung in der Nanoelektronik und Nanophotonik erforderlich sind. Diese Anforderungen können  durch den Einsatz der Elektronenstrahllithographie erfüllt werden.

Weitere Details über Möglichkeiten in diesem Bereich finden Sie in den FactSheets („Masters and Stamps“ und „E-Beam Lithography„) auf der rechten Seitenleiste.


Aktive und passive photonische Komponenten

Active_passive_photonic_componentsAMO bietet Forschungs- und Entwicklungsleistungen sowie die Kleinserienproduktion von nanophotonischen Silizium-Bauelementen und Schaltkreisen. AMO´s hochentwickelte Basis-Prozesslinie umfasst dabei eine große Bandbreite an Prozessen, die von einzelnen passiven nanophotonischen Chips bis zu 6”-Wafern  mit aktiven nanophotonischen Bauelementen und zwei Metall-Ebenen reichen.

Zurzeit können wir folgende Komponenten und Prozesse kommerziell anbieten:

  • Passive Komponenten
    • Prozesse für strip-, ridge-, slotted-Wellenleiter und kombinierte Wellenleitertechnologie
    • Verlustarme Wellenleiter
    • Resonatoren
    • Faser-Chip-Kopplung
  • Aktive Komponenten
    • Prozesse für n+ und p+ Dotierung und Metall-Interconnects sowie Prozesse für integrierte auf Titan basierenden Mikroheizern
    • Heizer
    • Modulatoren
    • IR-Detektoren

Eine detaillierte Darstellung ist in dem FactSheet „Nanophotonik“ auf der rechten Seitenleiste zu finden.


Graphen Flakes und Bauelemente

Im Rahmen des folgenden Produktportfolios bietet AMO kundenspezifische Lösungen für verschiedenste Anwendungsfelder:

Graphen Flakes
Mechanisch abgelöste Graphen Flakes sind für Anwendungen im Bereich der Grundlagen- und angewandten Forschung geeignet, wo hohe kristalline Qualität und eine geringe Kristallgröße erforderlich sind.

Graphen Bauelemente
AMO bietet ihren Kunden die Herstellung von Graphen-Transistoren an. Im Rahmen der Graphen Foundry Leistungen kann darüber hinaus ebenso Unterstützung bei der eigenen Prozessentwicklung des Kunden erfolgen.

Katalytisches Graphen
Katalytisch produziertes Graphen ist insbesondere geeignet für alle Bereiche, in denen großflächiges Graphen benötigt wird, wie z.B. transparente Elektroden oder funktionale Beschichtungen.

Substrate
Um ihre Forschungsleistungen im Bereich Graphen zu erleichtern, bietet AMO ihren Kunden verschiedene kundenspezifische Substrate an.

Details zu den oben im Einzelnen genannten Punkten können dem entsprechenden FactSheet „Graphen“ auf der rechten Seitenleiste entnommen werden.


CMOS Prototypenentwicklung

Der Übergang von der Mikro- zur Nanoskala in der CMOS-Technologie ist die größte Herausforderung der Halbleitertechnologie für die nächste Dekade. Die einfache Herunterskalierung der Bauteildimensionen scheint nicht ausreichend, um die sehr ambitionierten vorgegebenen Ziele der Semiconductor Industry Association (SIA) zu erreichen.

Seit dem Jahr 2000 ist die AMO in verschiedene Projekte involviert, die den Fokus auf unterschiedliche Aspekte der CMOS Technologie legen. Diese reichen von neuen Transistorkonzepten für die „End of Roadmap“-Skalierung  bis hin zu Bauelementen mit neuen Materialien wie High-k Gate-Dialektrika, Metall Gates sowie Siliziden.

Das Team der AMO hat eine flexible CMOS Prozessplattform entwickelt, die sich für eine Reihe von  Forschungs- und Entwicklungsanwendungen anpassen lässt.

Wenn Sie nach erfahrenen Partnern suchen, um die SOC-Umsetzbarkeit für Biochips, Sensor-Anwendungen oder MEMS/NEMS demonstrieren zu können, dann sind wir Ihr richtiger Partner!

Verfügbare Technologiemodule und Produkte:

  • Hoch auflösende nanoelektronische Transistor-Herstellung
  • SOI CMOS Prozess für Bauteil-Studien und „End-Of Roadmap“ Transistoren
  • Vielseitig einsetzbare Plattform-Technologie
  • Flexible Integration neuer Materialien
  • Elektronische Sensorherstellung
    • Nanoskalige elektronische Bauelemente für ultrasensitive Sensoren
    • Plattform für hochentwickelte Gas- und Biosensoren
    • Prototyping und Kleinserienfertigung

Bitte lesen Sie mehr im entsprechenden FactSheet „CMOS” auf der reichten Seitenleiste.