AMO

Nanoimprint

Machbarkeit und Kosten sind die entscheidenden Faktoren für Auswahl und Entwicklung von Nanofabrikationstechniken. AMO führt intensive Untersuchungen für die bestgeeignete Niedrigkosten-Fabrikatonstechnologie E-Beam-definierter Nanostrukturen durch. Hauptvorteile der AMO Nanoimprint-Lithografie sind der niedrige Imprint-Druck, die Möglichkeit der exakten Ausrichtung und eine Auflösung, die nur durch die Vorlage begrenzt ist.

Derzeit sind diverse F&E Projekte auf nationaler Ebene und auf EU-Ebene zur Erforschung der Möglichkeiten zur Ablösung der teuren EUV-Lithografie im Gange, die den Übergang zur industriellen Anwendung in der Photonik, NEMS und Biotechnologie eröffnen.

Untenstehend ist ein kurzer Überblick der derzeitigen Forschungsaktivitäten gelistet.


Nano3pt

Nano3pt

Innerhalb dieses nationalen BMBF Projektes sollen neue innovative Gassensor Konzepte entwickelt werden. Schlüsseltechnologie ist hierbei die Integration von Nanostrukturen in aktive optische Mikrosysteme. AMO ist hierbei verantwortlich für die Herstellung eines nanostrukturierten Siliziummasters via eines NIL basierten Rekombinationsprozesses, welcher dann wiederum zur Herstellung eines weichen polymeren Stempels mittels Gießform-Verfahren genutzt wird. Der Stempel wird zur Strukturierung von vorprozessierten 4“ Silizium-Substraten verwendet. Eine weitere Aufgabe der AMO besteht darin, diese vorprozessierten 4“ Silizium-Wafer mittels eines SCIL Prozesses als Teil der MOEMS Prozesskette zu strukturieren.

https://www.vdivde-it.de/anmeldung/mni-mag-2012/vortraege/NANO3PT.pdf/view?searchterm


NILTEX

NILTEX.tif

Anfänglich war dieses, von der AMO koordinierte, europäische EFRE Projekt zur regionalen Entwicklungsfinanzierung ausschließlich der Entwicklung preisgünstiger Technologien zur Reduzierung der Reflexion von Siliziumsolarzellen gewidmet. Während der Projektdurchführung rückten weitere Anwendungsmöglichkeiten in den Fokus. Ein Großteil dieser liegt in Bildverarbeitungstechniken durch fortschrittliche Nanostrukturen in Silizium. Sogar der Druck von Niedrigverlust-Silizium-Wellenleitern ist in Reichweite gerückt.


ANILP

ANLIP

Der Hauptfokus dieses internationalen Eurostar Projektes liegt in der Entwicklung einer Apparatur zur Strukturierung von Substraten bis zu einer Größe von 920 mm x 730 mm mittels eines direkten Ein-Schritt Substrat-zu-Substrat NIL-Prozesses. Ein zweiter Ansatz ist die Entwicklung einer Prozesskette zur Herstellung ausreichend vieler NIL Stempel in einem Zwei-Schritt Rekombinationsprozess. AMO ist hierbei verantwortlich für die Entwicklung eines geeigneten NIL Prozesses für die erste Stufe der Rekombination mit einer strukturierten Fläche bis zu 100 mm x 100 mm. Hauptfokus liegt hier auf der Optimierung der Prägezwischenräume sowie der Minimierung der korrespondierenden Defekte der einzelnen Prägungen.