AMO

Nanoimprint

Machbarkeit und Kosten sind die entscheidenden Faktoren für Auswahl und Entwicklung von Nanofabrikationstechniken. AMO führt intensive Untersuchungen für die bestgeeignete Niedrigkosten-Fabrikatonstechnologie E-Beam-definierter Nanostrukturen durch. Hauptvorteile der AMO Nanoimprint-Lithografie sind der niedrige Imprint-Druck, die Möglichkeit der exakten Ausrichtung und eine Auflösung, die nur durch die Vorlage begrenzt ist.

Derzeit sind diverse F&E Projekte auf nationaler Ebene und auf EU-Ebene zur Erforschung der Möglichkeiten zur Ablösung der teuren EUV-Lithografie im Gange, die den Übergang zur industriellen Anwendung in der Photonik, NEMS und Biotechnologie eröffnen.

Eine kurze Zusammenfassung der derzeitigen Forschungsprojekte finden Sie <hier>.