Forschung

Nanostrukturierung

Die Fähigkeit, Komponenten mit kritischen Abmessungen im Bereich von wenigen Nanometern herzustellen, ist die Grundlage für die Erforschung neuer Bauelementkonzepte und innovativer Materialien. Bei AMO entwickeln und erweitern wir ständig unsere Anlagen und unser Know-how für die Herstellung von Komponenten im Nanobereich.

Unsere Technologieplattform ermöglicht es uns, schnell und flexibel auf neue technische Entwicklungen zu reagieren. Wir optimieren unsere Nanostrukturierungsprozesse, wobei wir stets ein hohes Maß an Kompatibilität mit industriellen Fertigungsprozessen und eine Skalierbarkeit auf große Produktionsmengen im Auge behalten.

Gruppenleiter: Dr. Ing. Jens Bolten

Kontakt

Dr.-Ing. Jens Bolten

Group Leader - Nanostructuring


Eine hochflexible technologische Plattform

Unsere Technologieplattform basiert auf verschiedenen Lithographieverfahren, die flexibel miteinander kombiniert werden können und die es ermöglichen, lithographische Muster mit sehr hoher Präzision zu definieren. Wir verwenden die optische Lithographie als kosteneffiziente Strukturierungsmethode, die Laserinterferenzlithographie für die Strukturierung periodischer Strukturen und die Elektronenstrahllithographie für die höchste Auflösung.

Jedes lithografische Verfahren ist auf einen maßgeschneiderten Strukturübertragungsprozess abgestimmt und kann auf einer Vielzahl von Substraten eingesetzt werden, von herkömmlichen Siliziumwafern über Glassubstrate bis hin zu flexiblen Substratfolien.

Darüber hinaus haben wir ein fortschrittliches Nanoimprint-Lithografieverfahren patentiert, mit dem sich mittels E-Beam definierte Muster kostengünstig auf große Flächen übertragen lassen.

“The more challenging a patterning request is, the more interested we are in giving it a try.”

Laufende Projekte

Abschlossene Projekte

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