Technologietransfer

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Vom Labor zur Innovation

AMO ist als F&E-Unternehmen im Bereich der Mikro- und Nanotechnologie tätig und identifiziert seit über 30 Jahren wichtige Schlüsseltechnologien. Die Ergebnisse unserer Forschungs- und Entwicklungsarbeit machen wir der Industrie, Universitäten oder anderen externen Partnern wie Hightech-Start-ups zugänglich.

Wir bieten Firmen aber nicht nur an, was wir in geförderten Projekten gelernt haben. Wir ermöglichen einen ganzheitlichen Technologietransfer und reagieren flexibel auf Kundenaufträge. Wir sind ebenso in der Auftragsforschung tätig, begleiten ganze Wertschöpfungsketten und unterstützen innovative Ausgründungen, die sich aus den Forschungsergebnissen entwickeln. So stehen wir als internationaler Sparringspartner zur Seite und bereiten Innovationen den Weg.

Die Basis unserer Tätigkeiten, egal ob Forschung, Beratung oder auch Prototypenentwicklung, bildet der voll ausgestattete Reinraum, der für alle Partnerschaften offensteht.

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Lassen Sie uns sprechen

Wobei können wir Ihnen helfen?

AMO ist so organisiert, dass für alle Kunden und Partner die bestmögliche individuelle Lösung gefunden werden kann.

  • Sie suchen nach innovativen Lösungen, um Ihre Produkte oder Dienstleistungen zu verbessern?  Wir bieten Ihnen maßgeschneiderte Ansätze auf Basis unserer Forschungsergebnisse.
  • Sie haben eine technologiebasierte Geschäftsidee und wollen ein neues Unternehmen gründen? AMO bietet Ihnen Expertise in Forschung und Entwicklung, um innovative Lösungen zu entwickeln und ein Spin-off-Unternehmen aufzubauen. Wir begleiten Sie von der Ideenfindung bis zur Markteinführung.
  • Sie haben spezielle Forschungsthemen und benötigen individuelle Lösungen? Wir bieten Ihnen die Möglichkeit, Forschungsaufträge zu erteilen und arbeiten eng mit Ihnen zusammen, um maßgeschneiderte Lösungen zu entwickeln.
  • Sie benötigen eine Reinraumumgebung für Ihre Forschung oder Entwicklungsaufgaben? Wir bieten Ihnen die Möglichkeit, in unserem Reinraum ihre individuellen Lösungen für Ihre Forschungsprojekte zu entwickeln.

Lassen Sie uns gerne über Ihre Anforderungen und Ideen sprechen.

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Dipl.-Ing. Herbert Kleinjans

Head of Services, Operations & Communications (COO)


Produkte und Dienstleistungen

Ein Überblick über die Produkte und Dienstleistungen, die unseren Kunden und Partnern zur Verfügung stehen.

Nano- strukturierungPrototyp- entwicklungGraphen BauelementePhotonische KomponentenMetrologie
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Nanostrukturierung

AMO stellt eine äußerst flexible Prozessplattform für die Herstellung von Nanostrukturen bereit. Wir bieten eine Reihe von Lithographietechniken an, die flexibel miteinander kombiniert werden können – darunter auch Interferenzlithografie. Jedes lithografische Verfahren ist auf einen maßgeschneiderten Strukturübertragungsprozess abgestimmt und kann auf einer Vielzahl von Substraten eingesetzt werden. Darüber hinaus haben wir ein fortschrittliches Nanoimprint-Lithografieverfahren entwickelt, mit dem sich mittels E-Beam definierte Muster kostengünstig auf große Flächen übertragen lassen.

Lithographie

AMO bietet eine Reihe von Lithographietechniken an, darunter

  • Optische Lithographie
  • Interferenzlithographie
  • Elektronstrahllithographie

Jedes dieser lithografischen Verfahren ist speziell auf die anschließenden Strukturierungsprozess abgestimmt und kann auf einer Vielzahl von Substraten eingesetzt werden, von herkömmlichen Siliziumwafern über Glassubstrate bis hin zu flexiblen Substratfolien. Die verwendete Lithographietechnik hängt hauptsächlich von der erforderlichen minimalen Strukturgröße und anderen spezifischen Parametern des Bauelements ab.

Für weitere Informationen zu den verschiedenen Lithographietechnologien oder für eine spezifische Beratung für Ihre Anwendung, stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung.

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Nanoimprint

UV-Nanoimprint ist eine präzise Abformtechnologie, bei der ein Stempel mit einer 3D-Struktur in direkten Kontakt mit einem UV-härtbaren Lack auf einem Substrat gebracht wird. Die Strukturen füllen sich aufgrund der geringen Viskosität des Lacks aus und werden durch UV-Licht ausgehärtet. Nach der Aushärtung kann das Substrat mit den abgebildeten Strukturen als Funktionsschicht dienen oder die Strukturen können mittels RIE-Verfahren in das Substrat übertragen werden.

Wir bieten unseren Kunden einen kommerziell erhältlichen UV-härtbaren Resist – AMONIL® sowie einen passenden Haftvermittler – AMOPRIME. Darüber hinaus verfügen wir über umfangreiches Know-how in der Herstellung von Master-Stempeln für Nanoimprint-Anwendungen.  Dank unserer langjährigen Erfahrung auf diesem Gebiet und der breiten Palette an lithografischen Verfahren, die in unserem Reinraum zur Verfügung stehen, können wir unseren Kunden hochwertige und präzise Lösungen für ihre spezifischen Anforderungen anbieten.

AMO verfügt aufgrund jahrelanger Erfahrung im Bereich Nanoimprint über einen kommerziell erhältlichen UV-aushärtbaren Resist (AMONIL®) sowie einen passenden Haftvermittler (AMOPRIME). Der Resist AMONIL® zeichnet sich durch eine exzellente Profilgenauigkeit, hervorragende Beschichtungs- und Imprint-Eigenschaften sowie hinreichende Plasmastabilität aus.

Anwendung

  • UV-basierte Nanoimprint-Lithographie

Eigenschaften

  • Verwendbar mit Standard Spin Coating
  • Passend für Quarz, PDMS und PFPE Formen
  • Gute Hafteigenschaften auf Siliziumsubstraten
  • AMONIL® haftet gut auf verschiedenen Substraten wie SiO2, Ti, Au und PE. Die Haftung kann durch die Verwendung von AMOPRIME verbessert werden.
  • Verwendung von AMOPRIME ermöglicht Imprint auf GaAs, GaN, InP, Al2O3

Spezifikation

  • Viskosität des Basismaterials: 50mPa s
  • Fotoaktivator ausgelegt für UV-Ausheilung
  • Kapäzität für Step&Repeat Zyklen > 1000 Imprints nachgewiesen
  • Erforderliche Dosis: 2J/cm² bei Verwendung einer Quarzform

Verfügbarkeit:

  • AMONIL erhältlich in 3 Variationen mit Filmdicken von100 bis 800 nm
  • AMOPRIME als Haftverbesserer verfügbar

Weitere Details  finden Sie in den FactSheet.

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Interferenzlithografie

Die Interferenzlithografie (IL) ist eine optische Lithographietechnik, die auf holografischen Prinzipien beruht. Dabei wird ein Interferenzmuster aus zwei ultravioletten Lichtstrahlen in einen hochauflösendes, lichtempfindlichen Lack übertragen. Die entstehenden Muster sind stitching-free und räumlich kohärent über viele Quadratzentimeter und ermöglichen Strukturen kleiner als 100 nm. Aufgrund ihrer Präzision ist die IL-Technologie besonders gut geeignet für die Herstellung von Gittern (Gratings).

Die Interferenzlithografie eignet sich besonders für die Herstellung von:

  • großflächigen Gittern (Gratings)
  • periodischen Nanostrukturen
  • porösen Oberflächen
  • photonischen Kristallen

Außerdem findet die Interferenzlithografie auch in der Produktion von optischen Komponenten, Mastern für Nanoimprint und Mikro-Optik Anwendung. Insbesondere in der Bio-Technologie wird sie zur Erstellung von biokompatiblen Oberflächen eingesetzt. Darüber hinaus ist sie in der Messung zur Herstellung von Präzisionsmessgeräten von großer Bedeutung.

Usere Expertise

Bei AMO ist das IL-Verfahren speziell auf hochkontrastreiche Gitter ausgerichtet, die in einen Standard-Photoresist im tiefen UV-Bereich übertragen werden. Dieser ermöglicht eine anisotrope Strukturübertragung.

AMO bietet flexible Belichtungs- und Entwicklungsdienstleistungen für Gratings an. Dafür stehen zwei spezielle, aktiv stabilisierte Interferometer zur Verfügung. Die Strukturübertragung und die Weiterverarbeitung wird entsprechend den individuellen Kundenanforderungen durchgeführt. Es stehen unterschiedliche Substratgrößen zur Verfügung

Alle Abmessungen des Gitters werden spezifiziert und während sowie nach der Bearbeitung kontrolliert. Line Mapping and Line Edge Roughness (LER) Charakterisierung sind auf Anfrage möglich.

Weitere spezifikationen im Fact-Sheet.

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Prototypentwicklung

Unser Angebot umfasst Forschungsexpertise und Prototyping-Dienstleistungen im Bereich der Mikro- und Nanotechnologie, die u.a. für Anwendungen in der Elektronik, Photonik, Sensorik und Biotechnologie zum Einsatz kommen. Dank unserer flexiblen F&E-Infrastruktur sind wir in der Lage, branchenübergreifende Spezifikationen zu erfüllen und maßgeschneiderte Lösungen für unsere Kunden anzubieten.

Zu unseren Technologieplattformen gehört:

  • Si- und SiN-Nanophotonik
  • Graphen-Foundry
  • Nanostrukturierung

Zusätzlich bieten wir folgende Dienstleistungen an:

  • Elektronenstrahllithographie (CD ~10nm)
  • optische Lithographie (CD ~500nm)
  • Interferenz-Lithographie
  • Nanoimprint-Technologie
  • Strukturübertragung
  • Umfangreiche Depositionsprozessen.

Unsere Stärken:

  • Individuelle Dienstleistungen, von Proof-of-Principle-Demonstrationen bis zur Produktion in kleinem Maßstab
  • Flexible Integration von neuen Materialien und Technologien
  • Kurze Durchlaufzeiten durch effektive Prozesssteuerung und erfahrenes Team
  • Optimierung der Prozesse von der Konzeptentwicklung bis zum fertigen Demonstrator
  • Schutz des geistigen Eigentums der Kunden (IP Protection)

Die enge Feedbackschleife mit unseren Kunden ermöglicht es uns, individuelle Lösungen zu entwickeln, die den spezifischen Anforderungen jedes Kunden entsprechen.

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Graphen Bauelemente

AMO bietet seinen Kunden die Möglichkeit, maßgeschneiderte Graphen-Bauelemente zu fertigen. Dabei können Kunden zwischen individuellen Wafern, die ihren spezifischen Anforderungen entsprechen, und Multiprojekt-Wafern, die im Rahmen des 2D-EPL-Projekts angeboten werden, wählen. Die Bauelemente umfassen back-gated, top-gated und dual-gated Transistoren, die Anwendungen im Bereich der Sensorik (z.B. Hallsensoren, Biosensoren, etc.) ermöglichen. Auch die Herstellung von integrierten Schaltungen wie Graphen-integrierten MMICs ist möglich.

AMO unterstützt zudem die Kunden bei der Entwicklung ihrer eigenen Prozesse im Rahmen der Graphen-Foundry-Dienstleistungen. Die detaillierten Möglichkeiten und Anwendungen können gerne in einem persönlichen Gespräch besprochen werden. Im Folgenden sind einige technologische Eckpunkte aufgeführt

Technologische Basis

Substrat

  • Größe 1×1 cm bis zu 8″
  • Glas
  • Silizium
  • SOI
  • Flexibel

Strukturierung / Lithographie

  • Auflösung bis zu 100 nm
  • Bis zu 4-Schicht-Lithographie
  • Ätzen (wet & dry)
  • Lift-Off Prozesse

Deposition

  • Verschiedene CVD-Systeme (SiO2, Si3N4, Graphen, …)
  • ALD (Al2O3, TiO2, AlN, TaN, TiN)
  • Sputtern (Cu, Ni,…)
  • Aufdampfen (Al, Ni, Au, Pd, Ti, Cr)
  • In-House Nassübertragung von Graphen

Charakterisierung

  • Elektrische Messungen (DC, RF)
  • Raman Spektrometer
  • Ellipsometer Messungen
  • Electronen Mikroskopie
  • Optische Mikroskopie
Graphene-based flexible Hall sensor
Wafer with graphene-based devices

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Aktive und passive photonische Bauelemente

AMO bietet Forschungs- und Entwicklungsdienstleistungen sowie Kleinserienfertigung von nanophotonischen Bauelementen und Schaltungen aus Silizium und Siliziumnitrid an. Die Prozesslinie von AMO umfasst ein breites Spektrum von Prozessen, von einzelnen passiven Silizium/Siliziumnitrid-Nanophotonik-Chips bis hin zu 6-Zoll-Wafern mit aktiven nanophotonischen Bauelementen und zwei Metallschichten.
Derzeit bieten wir die folgenden Komponenten und Prozesse kommerziell an:

Passive Bauelemente

  • Prozesse für Streifen-, Steg-, Schlitz- und kombinierte Wellenleitertechnologien
  • Verlustarme Wellenleiter
  • Resonatoren
  • Faser-Chip-Kopplung

Aktive Komponenten

  • Prozesse für n+  und p+ Doping und Metallverbindungen sowie Prozesse für integrierte Mikroheizer auf Titanbasis
  • Heizelemente
  • Modulatoren
  • IR-Detektoren

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Metrologie

Die Forschungsinfrastruktur von AMO umfasst eine breite Palette von Analysewerkzeugen für metrologische Untersuchungen an kleinen Substraten bis hin zu 6-Zoll-Wafern.

Derzeit bieten wir folgende Messdienstleistungen an:

  • Optische Eigenschaften dünner Schichten und transparenter Substrate
  • Oberflächenmorphologie
  • Oberflächentextur
  • Raman- und Photolumineszenz-Messungen
  • Dimensionelle Messungen wie Schichtdicken
  • Elektrische Messungen
  • Messungen des spezifischen Widerstandes

Analytische Charakterisierung

  • Rastersondenmikroskopie
  • Ellipsometrie
  • Dektak Oberflächenprofiler
  • Raman-Spektroskopie
  • Rasterelektronenmikroskopie
  • Terahertz-Spektroskopie (in Kooperation mit Protemics)

Elektrische Charakterisierung

  • Parameter-Analysatoren
  • Sondenstation
  • Impedanz-Analysator
  • Agilent pA-Meter und Agilent Precision
  • LCR-Meter

Charakterisierung photonischer Bauelemente

  • bei 1300 nm und 1550 nm
  • Abstimmbare Laser
  • Stumpf- und fasergekoppelt

Weitere Informationen zu den einzelnen Instrumenten finden Sie hier.

Kontakt

Dr. Satender Kataria

Senior Scientist