Fact-Sheets und mehr
AMO bietet Entwicklungs- und Prototyping-Dienstleistungen auf dem Gebiet der Mikro- und Nanotechnologie für Anwendungen in der Elektronik, Photonik, Sensorik und Biotechnologie. Hier finden Sie einen kurzen Überblick über unsere Kompetenzen und unseren Ansatz.
AMO betreibt einen Reinraum der Klasse 10 bis Klasse 1000, der mit fortschrittlichen Fertigungsanlagen für die Halbleitertechnologie ausgestattet ist. Hier finden Sie eine Übersicht über die vorhandene Anlage, die wir interessierten Kunden und Partnern als Teil unserer Dienstleistungen zur Verfügung stellen.
Im Rahmen des Technologietransfers, bietet AMO die Herstellung von customized Graphenkomponenten an und unterstützt Kunden bei der Entwicklung ihres eigenen Fertigungsprozesses. Unsere erfahrenen Experten arbeiten eng mit dem Kunden zusammen, um individuelle Lösungen zu entwickeln, die auf ihre spezifischen Anforderungen abgestimmt sind. Weitere Informationen zu unseren Graphene Foundry Services finden Sie im Fact-Sheet.
AMO bietet Forschung, Entwicklung und Kleinserienproduktion von nanophotonischen Bauelementen und Schaltkreisen aus Silizium an. Die fortschrittlichen Basisprozesse von AMO decken ein breites Spektrum von einzelnen passiven nanophotonischen Chips bis hin zur Verarbeitung von 6-Zoll-Wafern mit aktiven nanophotonischen Bauelementen und zweistufigen Metallverbindungen ab. Weitere Informationen im Fact-Sheet.
AMO bietet eine breite Palette von EBL-Verfahren für viele verschiedene Substrattypen, Substratgrößen und Anwendungen an. Weitere Informationen im Fact Sheet.
Bei AMO sind derzeit zwei Interferenzlithographie-Systeme installiert: ein Setup für ausgedehnte, hoch qualitative Gitter mit fester Periode, sowie ein flexibles System für schnelle Prototypenentwicklung. Wir bieten die Herstellung von Gittern auf Silizium, Siliziumdioxid und anderen Substraten an, immer mit nach Kundenwünschen maßgeschneiderter Periode, Ätztiefe und Größe. Weitere Informationen im Fact-Sheet.
Bei AMO bieten wir großflächige Gratings an, die mithilfe Interferenzlithographie hergestellt werden. Diese Technologie ermöglicht die Herstellung von großflächigen, kohärenten und periodischen Gittern mit nahezu konstanter Teilung. Unsere Kunden können dabei ihre individuellen Designs wählen. Außerdem wir bieten auch Unterstützung bei der weiteren Entwicklung an. Darüber hinaus können wir individuelle Designs mit unseren modernen E-Beam Anlagen (Raith EPG5200) herstellen, um noch höhere Auflösungen (~5nm) zu erzielen und bieten ein Höchstmaß an Flexibilität im Hinblick auf Design und Substratgröße. Weitere Informationen finden Sie in unserem Fact-Sheet.
Mit langjährigen Erfahrung im Bereich Nanoimprint hat AMO einen UV-vernetzende Resist (AMONIL®) und einen passenden Haftvermittler (AMOPRIME) entwickelt, die kommerziell erhältlich sind. AMONIL® bietet eine hervorragende Kombination aus Beschichtungs- und Imprint-Eigenschaften, exzellenter Profilgenauigkeit und hinreichender Plasmastabilität. Diese Eigenschaften machen AMONIL® zu einem herausragenden Material für die Nanoimprint-Technologie, die eine hohe Präzision und Zuverlässigkeit erfordert. AMO unterstützt Kunden bei der Anwendung von AMONIL® und AMOPRIME, um deren Vorteile optimal zu nutzen.
AMO setzt sich dafür ein, ein einladendes und integratives Umfeld zu schaffen, in dem unsere Mitarbeiter ihre Ziele erreichen und ihr Potenzial ausschöpfen können. Erfahren Sie mehr in unserem Gleichstellungsplan.
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